濕度控制是無(wú)塵車(chē)間生產(chǎn)必需具備的重要條件，相對(duì)濕度是無(wú)塵車(chē)間、潔凈室運(yùn)作過(guò)程中一個(gè)常用的環(huán)境控制條件。半導(dǎo)體無(wú)塵車(chē)間、潔凈室中的典型的相對(duì)濕度的目標(biāo)值大約控制在30至50%的范圍內(nèi)，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內(nèi)，例如光刻區(qū)或者在遠(yuǎn)紫外線處理(DUV)區(qū)甚至更小而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內(nèi)。

為了把無(wú)塵車(chē)間溫濕度等要求保持規(guī)定的范圍內(nèi)，廠家需要支付資金來(lái)支持其運(yùn)轉(zhuǎn)。為什么要花這么多錢(qián)來(lái)控制無(wú)塵車(chē)間或潔凈室的相對(duì)濕度呢?原因很簡(jiǎn)單!因?yàn)橄鄬?duì)濕度有許多因素會(huì)影響無(wú)塵車(chē)間或潔凈室的整體性能，如相對(duì)濕度太大或太小就會(huì)出現(xiàn)以下現(xiàn)象:

1、細(xì)菌生長(zhǎng)；

2、在室內(nèi)工作人員會(huì)感到不舒服；

3、出現(xiàn)靜電荷；

4、金屬腐蝕；

5、水汽冷凝；

6、光刻的退化；

7、材料出現(xiàn)吸濕現(xiàn)象等。

細(xì)菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨蟲(chóng))在相對(duì)濕度超過(guò)60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。在相對(duì)濕度處于40%至60%的范圍之間時(shí)，可以使細(xì)菌的影響以及呼吸道感染降至最低。

高濕度實(shí)際上減小了無(wú)塵車(chē)間、潔凈室表面的靜電荷積累──這是大家希望的結(jié)果。較低的濕度比較適合電荷的積累并成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當(dāng)相對(duì)濕度超過(guò)50%時(shí)，靜電荷開(kāi)始迅速消散，但是當(dāng)相對(duì)濕度小于30%時(shí)，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長(zhǎng)一段時(shí)間。

相對(duì)濕度在35%到40%之間可以作為一個(gè)令人滿意的折中，半導(dǎo)體無(wú)塵車(chē)間、潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。

很多化學(xué)反應(yīng)的速度，包括腐蝕過(guò)程，將隨著相對(duì)濕度的增高而加快。所有暴露在無(wú)塵車(chē)間、潔凈室周?chē)諝庵械谋砻娑己芸斓乇桓采w上至少一層單分子層的水。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時(shí)，高濕度可以使反應(yīng)加速。幸運(yùn)的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護(hù)型的氧化物，并阻止進(jìn)一步的氧化反應(yīng)；但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護(hù)能力的，因此，在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。

在半導(dǎo)體無(wú)塵車(chē)間、潔凈室中最迫切需要適當(dāng)控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對(duì)相對(duì)濕度極為敏感的特性，它對(duì)相對(duì)濕度的控制范圍的要求是最嚴(yán)格的水準(zhǔn)。

總而言之半導(dǎo)體無(wú)塵車(chē)間、潔凈室中控制相對(duì)濕度不是隨意的。如今隨著科技的發(fā)展，除濕設(shè)備已廣泛應(yīng)用于人們的日常生活、工業(yè)生產(chǎn)、加工儲(chǔ)存中。

根據(jù)上述要求，無(wú)塵車(chē)間用轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)會(huì)更好的控制其室內(nèi)的溫濕度要求，特別是在一些制藥、食品加工、電子加工中對(duì)無(wú)塵車(chē)間中的溫濕度要求是非常的高，普通的除濕是無(wú)法達(dá)到其要求。而普瑞除濕設(shè)備中的轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)采用世界一流的超級(jí)硅膠/負(fù)荷分子篩轉(zhuǎn)輪，可以用于要求露點(diǎn)溫度低到-65℃除濕領(lǐng)域。

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